材料科学论文_直流磁控溅射膜厚分布实测与数值
文章摘要:基于直流磁控溅射的基本原理，通过对小圆形磁控溅射平面靶的特点分析，建立了磁控溅射系统的几何模型，推导出了膜厚分布的数学理论模型。借助MATLAB数学软件，计算了不同靶基距下膜厚分布的理论数据，分析了靶基距变化时膜厚分布的特点。实测了两种不同靶基距下膜厚的分布，通过与理论数据的对比，验证了模型的可靠性。理论模型与实测数据的分析表明：随着靶基距的逐渐增大，膜厚的变化率减缓，膜层的平均厚度降低，膜厚分布的均匀性提高；在靶基距一定的情况下，增宽靶材的刻蚀区域会提高膜层厚度及其均匀性；基板上的膜厚分布大致呈现从中心到边缘逐渐变薄的趋势，膜层最厚的位置随着靶基距的增大，从靶材刻蚀最深处在基板上的投影位置，逐渐向基板中心转移。
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